精密研磨拋光的質量是影響氮化硅軸承球性能和使用壽命的重要因素。

化學機械拋光：

化學機械拋光具有加工效率高、表面粗糙度低、加工劣化層小等技術特點。多用于各種功能陶瓷和工程陶瓷的表面精加工。在浮在液體介質中的納米級軟拋光顆粒在拋光顆粒與工件的接觸點與相應的拋光液摩擦，產生高溫高壓。在很短的時間內。固相反應軟化材料的表面。通過工件和拋光盤之間的機械摩擦，反應產物以 0.1 nm 級別的小單位被去除，從而產生非常光滑的表面。

在選擇磨料時，一定要注意不要選擇比被加工材料硬的磨料。 這是因為當硬質磨料起作用時，其機械拋光起主導作用，但會增加工件表面缺陷。 如今，工業上越來越多的氧化鈰（CeO2）磨料用于氮化硅陶瓷球的化學機械拋光。 一是它可以直接與Si3N4發生化學反應，形成SiO2層。 另一個是它的硬度接近于SiO2。 由于硬度明顯低于Si3N4，因此幾乎不會對氮化硅球造成劃痕等損傷。